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羅門哈斯氯化鹽三價鉻
特點：
1.鍍液穩定，電鍍過程中斷電不會使鍍層喑啞
2.鍍層覆蓋能力好，電流范圍廣闊，高電位燒焦現象減少
3.陰極效率高，電鍍速度快
4.此工藝採用石墨陽極，陽極使用壽命長，使鍍液免受鉛污染
5.鍍層多微孔
槽液配制				藥品	范圍	建議值		開缸劑	375~450克每升	410克每升		三價鉻含量	20~24克每升	22克每升		穩定劑	50~70毫升每升	60毫升每升		濕潤劑	2~5毫升每升	3毫升每升		絡合劑 	1~2毫升每升	1毫升每升		配槽程序
配液時，藥品添加順序和配液方法非常重要，需嚴格按照以下步驟，配制時的反應時間亦按照文中揚示處理
1.??????? 注入蒸餾水於清潔的槽中，約佔總體積的60%，加熱至60度，並不斷攪拌
2.??????? 將鍍液溫度維持在60度，慢慢添加410克每升的開缸劑並不斷攪拌，確保完全溶解，無沉澱在槽底（注意：在添加開缸劑過程中溫度會驟降，應重新加熱至60度後再慢慢加入開缸劑直至溶解）
3.??????? 注入蒸餾水至總體積的85%，維持溫度在50度。檢查槽底確保開缸劑已完全溶解
4.??????? 維持鍍液溫度在50度並不斷攪拌，添加穩定劑，攪拌均勻，將鍍液溫度維持在50%，維持三小時以上
5.??????? 安裝石墨陽極並用鈦架固定，確保所有導電裝置處於緊密接觸狀態。使用PVC膠布包住外露的銅導電位置
6.??????? 添加3毫升每升的絡合劑，邊加邊攪拌
7.??????? 添加蒸餾水至所配槽總體積，攪拌均勻
8.??????? 將鍍液溫度調整至32度
9.??????? 檢查並調校PH值，確保鍍液PH值在操作范圍內，如低於3，這時鍍液可以使用。過3~4小時會重新檢查PH，並做最後調整。如高於3，需對槽液體積和所添加的開缸劑數量進行檢查，確保槽體積和開缸劑的添加量正確。如需對PH進行調整，將鍍液加溫至49度。調整後將其冷卻至操作溫度
10.???? 如此時高電流密度區出現問題，可將其進行短暫的電解處理
操作規范資料			參數	操作范圍	建議值		PH值	2.5~3.0	2.8		溫度	30~40度	32度		電流密度陰極：陽極：	                              5~20安培每平方分米3~5安培每平方分米	                                     10安培每平方分米4安培每平方分米		比重	1.2~1.222（32度）	1.21（32度）		陽極	特種石墨		攪拌	輕微空氣攪拌		槽液控制
對鍍液的控制需要在安培小時內對電鍍液中各成份的數量、比重、酸鹼度和溫度進行調控。為取得最佳電鍍性能，每個輪班至少需對添加劑補充添加1次，如工作載重大於0.75安培每升時補充次數應更頻繁。定期分析鍍液各成份及按照安培小時消耗補充添加劑，對工藝的穩定性十分重要。建議使用工作日志記錄生產線的安培分鐘用量、比重、PH值、溫度及添加劑補充資料。鉻鹽、穩定劑及濕潤劑的補充量可直接根據安培小時消耗量作出補充。帶水消耗可根據比重值調節
開缸劑
開缸劑內含鍍液所需的導電成份及鉻鹽，隻有帶出損耗，用於開缸和補充，應根據鍍液的比重進行添加，鍍液的最佳比重為1.210。鍍液中各成份被慢慢消耗，比重也會隨之下降，應對開缸劑進行補充。測量鍍液的比重和添加開缸劑需在對其它各成份進行分析添加後進行。一般情況下，每添加22克每升的開缸劑可提高比重約0.01單位。
添加開缸劑 應慢慢進行，空氣攪拌要確保開缸劑 完全溶解，槽底沒在殘留物。開缸劑是綠色粉未，含有鉻混合物，添加進應盡可能減少粉塵，並採取適當的保護措施
鉻鹽
鉻鹽主要用於補充槽液中安培分鐘內由於電鍍而消耗的鉻。對鉻鹽的添加應在調整開缸劑前進行
鉻鹽不能用於調整鍍液比重值，其添加方式與開缸劑相似
將鍍液中鉻濃度維持在合適范圍內很重要。一般情況下鉻鹽的消耗量為每1000安培小時消耗370~400克，每4安培小時應補充一次
鉻鹽是深綠色粉未，含有鉻混合物，添加進應盡可能注意防護
穩定劑
穩定劑的作用是與三價鉻形成一種穩定的化合物使鉻鍍出、如無穩定劑，鉻就不能鍍出。將穩定劑控制在合適范圍非常重要。一般情況下，每1000安培小時消耗穩定劑約1400毫升，每4安培小時應添加一次
濕潤劑
濕潤劑影響鍍層分布能力，濃度太低會導致鍍層起漬，特別是鍍層表面。一般情況下穩定劑濃度太高不會有壞作用。因此鍍液中濕潤劑濃度必須有個底限。一般情況下，每1000安培小時消耗濕潤劑28~55毫升，每4安培小時添加1次
絡合劑
鉻合劑有助於擴闊鍍鉻所需的電流密度范圍。主要用於開缸，通常情況下無需對其進行補充。如需添加請征詢羅門哈斯技術人員的意見
溫度
鍍液的最佳溫度是32度。鍍液溫度太低，在槽壁、氣管、加執器或陽極上交有沉澱析出。鍍液能影響鍍層性能，台低電流密度區域覆蓋能力和顏色。鍍液溫度太高會降低鍍層覆蓋力，產生昏暗鍍層。
如電流密度和鍍液回圈率太高，需對鍍液進行冷卻。加熱和冷卻設備都可用純鈦材料（不能用鈦合金）。鍍槽內的鈦設備必須置於陽極後面，並採用電阻絲與陽極電路相連，以防止因雙極連接變成陽極。如外部熱轉換器作冷卻之用，無需將鍍液冷卻至出南結晶現象。浸入式石英加熱器課堂於加熱鍍液，同時也建議用用自動溫度控制系統。
PH
鍍液的PH值會影響電鍍速度和低電流密度區域覆蓋力。PH過高，會降低電鍍速度，但能使低電流密度區域覆蓋力加強。可以通過添加濃鹽酸降低PH或添加氫氧化氨提高PH。不論添加濃鹽酸或氫氧化氨都會對鍍液PH產生很大影響，如添加後立即進行測試。鍍液的PH值需要在添加2~4小時後才能穩定。總的來說，添加2毫升每升鹽酸或氫氧化氨可以改變PH0.1單位。
電流密度
陰極電流密度應越低越好。這將降低冷卻、電流容量和添加劑的消耗量的要求。提高電流密度不會使鍍層孌厚，因為電流密度提升時陰極效率下降。雖然這將產生良好走位能力的鍍層，但鍍層厚度隻與電鍍時間有關。一般來說，多路徑的沉積速度為約0.16~0.2微米每分鐘，與電流密度無關。
攪拌
輕微均勻的攪拌能產生走位能力良好的鍍層，並可以防止鍍液和溫度分層。空氣攪拌管可以採用PVC管。
金屬污染
與六價鉻相比，金屬污染更能影響 三價鉻電鍍液的性能。三價鉻電鍍液受污染影響而產生的問題與大多數光亮鎳電鍍液受污染產生的問題相似。污染源主要來自於掛鍍中所殘留的工件和鍍鎳後水洗不充分。如污染程度在鍍液所容忍范圍內，可在325安培每平方米的電流密度下對鍍液進行操作，使用波紋鎳陰極，直至問題解決。鍍液經常發現幾種金屬污染混雜，相互令污染程度更嚴重。比如：0.05克每升鋅、0.1克每升鐵、0.01克每升銅的混雜污染比單一金屬污染對鍍液危害更大。因此，消除金屬污染非常重要，以便操作無故障。也可採用離子交換方法凈化。
常見問題的解決				問題	原因	解決措施		鍍層有黑色條紋	1.PH太高2.濕潤劑濃度過低3.穩定劑濃度過低4.鍍液中鉻含量過低	1.校正PH2.添加濕潤劑3.添加穩定劑4.添加鉻鹽		鍍層有白色斑紋	1.鉛污染2.鍍鎳前鍍層清潔不徹底3.鍍鉻前工件過於幹燥	1.排除鉛污染源2.清潔徹底3.保持工件微濕		白色鍍層	1.鋅污染	排除鋅污染源		鉻結合力差	
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