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半导体三极管和场效应管.ppt
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技术类型:国产软件 - 机械化工 - 机械化工ppt
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更新时间:2019-12-30 16:20:55
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半导体三极管和场效应管.ppt介绍

图 2-12      MOS管的结构及其图形符号   绝缘栅场效应管的图形符号如图2-12(b)、(c)所示,箭头方向表示沟道类型,箭头指向管内表示为N沟道MOS管(图(b)),否则为P沟道MOS管(图(c))。             2)工作原理             图2-13是N沟道增强型MOS管的工作原理示意图,图2-13(b)是相应的电路图。工作时栅源之间加正向电源电压UGS,漏源之间加正向电源电压UDS,并且源极与衬底连接,衬底是电路中最低的电位点。             当UGS=0时,漏极与源极之间没有原始的导电沟道,漏极电流ID=0。这是因为当UGS=0时,漏极和衬底以及源极之间形成了两个反向串联的PN结,当UDS加正向电压时,漏极与衬底之间PN结反向偏置的缘故。           图2-13    N沟道增强型MOS管工作原理                      (a)示意图; (b)电路图             当UGS 0时,栅极与衬底之间产生了一个垂直于半导体表面、由栅极G指向衬底的电场。这个电场的作用是排斥P型衬底中的空穴而吸引电子到表面层,当UGS增大到一定程度时,绝缘体和P型衬底的交界面附近积累了较多的电子,形成了N型薄层,称为N型反型层。反型层使漏极与源极之间成为一条由电子构成的导电沟道,当加上漏源电压UGS之后,就会有电流ID流过沟道。通常将刚刚出现漏极电流ID时所对应的栅源电压称为开启电压,用UGS(th)表示。             当UGS UGS(th)时,UGS增大、电场增强、沟道变宽、沟道电阻减小、ID增大;反之,UGS减小,沟道变窄,沟道电阻增大,ID减小。所以改变UGS的大小,就可以控制沟道电阻的大小,从而达到控制电流ID的大小,随着UGS的增强,导电性能也跟着增强,故称之为增强型。              必须强调,这种管子当UGS UGS(th)时,反型层(导电沟道)消失,ID=0。只有当UGS≥UGS(th)时,才能形成导电沟道,并有电流ID。              3)特性曲线          (1)转移特性曲线为          由图2-14所示的转移特性曲线可见,当UGS UGS(th)时,导电沟道没有形成,ID=0。当UGS≥UGS(th)时,开始形成导电沟道,并随着UGS的增大,导电沟道变宽,沟道电阻变小,电流ID增大。       (2)输出特性曲线为               图2-14  转移特性曲线               图2-15为输出特性曲线,与结型场效应管类似,也分为可变电阻区、恒流区(放大区)、夹断区和击穿区,其含义与结型场效应管输出特性曲线的几个区相同。                         图2-15  输出特性曲线  二、耗尽型N沟道绝缘栅场效应管 1、结构、符号和工作原理              N沟道耗尽型MOS管的结构如图2-16(a)所示,图形符号如图2-16(b)所示。N沟道耗尽型MOS管在制造时,在二氧化硅绝缘层中掺入了大量的正离子,这些正离子的存在,使得UGS=0时,就有垂直电场进入半导体,并吸引自由电子到半导体的表层而形成N型导电沟道。     图2-16  N沟道耗尽型MOS管的结构和符号         (a)结构;(b)图形符号  * 第二章  半导体三极管  * 第一章  半导体器件  第二章   半 导 体 三极管  2.1   双极型半导体三极管  2.2单极型半导体三极管  2.3   半导体三极管电路的基本分析方法 2.4   半导体三极管的测试与应用  2.1  双极型半导体三极管  图 2  -  1   几种半导体三极管的外形  max.book118.com   晶体三极管的工作原理  图 2 – 2  晶体三极管的结构示意图和符号  一、结构及符号        无论是NPN型或是PNP型的三极管,它们均包含三个区:  发射区、基区和集电区,  并相应地引出三个电极:发射极(e)、基极(b)和集电极(c)。同时,在三个区的两两交界处,  形成两个PN结, 分别称为发射结和集电结。常用的半导体材料有硅和锗, 因此共有四种三极管类型。它们对应的型号分别为:3A(锗PNP)、3B(锗NPN)、3C(硅PNP)、3D(硅NPN)四种系列。  二、 三极管的三种连接方式  图 2  -  3    三极管的三种连接方式 三、 三极管的放大作用  1. 载流子的传输过程 发射。  (2) 扩散和复合。  (3) 收集。  图 2 – 4  三极管中载流子的传输过程 2.  电流分配  图 2  -  5  三极管电流分配          集电极电流IC由两部分组成:ICn和ICBO, 前者是由发射区发射的电子被集电极收集后形成的, 后者是由集电区和基区的少数载流子漂移运动形成的,称为反向饱和电流。 于是有  IC=ICn+ICBO                   (2 - 1)         发射极电流IE也由两部分组成:IEn和IEp。IEn为发射区发射的电子所形成的电流, IEp是由基区向发射区扩散的空穴所形成的电流。因为发射区是重掺杂, 所以IEp忽略不计, 即IE≈IEn。IEn又分成两部分, 主要部分是ICn, 极少部分是IBn。IBn是电子在基区与空穴复合时所形成的电流, 基区空穴是由电源UBB提供的,故它是基极电流的一部分。  基极电流IB是IBn与ICBO之差:  (2-2) (2-3)         发射区注入的电子绝大多数能够到达集电极, 形成集电极电流, 即要求ICn  IBn。          通常用共基极直流电流放大系数衡量上述关系, 用α来表示, 其定义为  (2-4) 一般三极管的α值为0.97~0.99。将(2-4)式代入(2-1)式, 可得  (2-5) 通常IC  ICBO, 可将ICBO忽略, 由上式可得出  (2-6) 三极管的三个极的电流满足节点电流定律, 即 将此式代入(2 - 5)式得 (2-7) 经过整理后得  令        β称为共发射极直流电流放大系数。当IC  ICBO时, β又可写成 (2-8) (2-9) 则 其中ICEO称为穿透电流, 即  一般三极管的β约为几十~几百。β太小,  管子的放大能力就差, 而β过大则管子不够稳定。  表2  -  1  三极管电流关系的一组典型数据  2.96 2.37 1.77 1.16 0.57 0.01 0 IE/mA 2.91 2.33 1.74 1.14 0.56 0.01 0.001 IC/mA 0.05 0.04 0.03 0.02 0.01 0 -0.001 IB/mA  相应地, 将集电极电流与发射极电流的变化量之比, 定义为共基极交流电流放大系数, 即 故        显然β与β, α与α其意义是不同的, 但是在多数情况 下β≈β, α≈α。 例如, 从表2 - 1 知,  在IB=003mA附近, 设IB由002mA变为004mA, 可求得 max.book118.com 三极管的特性曲线  图 2 – 6  三极管共发射极特性曲线测试电路  1.输入特性          当UCE不变时, 输入回路中的电流I
半导体三极管和场效应管.ppt

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